半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
的项目的背景
该中小型企业专业技术产生半导体设备用高纯氟化氢和六氟化钨,生活污水氟密度高超且材料冗杂。同一清工院艺郊果不平衡,氟化物尾气排放总是超出标准。创业投资加盟2200万元制作专用清理装置,制作清理作用500吨/天。
化工废水化学成分及从何而来
废液重要基出产的设备冲洗和有机废气洗衣:
氟化合物浓硫酸浓度:1500-3500mg/L
含氢氧化钠根铝离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含进样器钨、钼等轻金属事物
外理制作工艺方案
争对高有机废气浓度作用,通过"中合+单级析出+膜净化处理"加工:
焦化废水处理收录池:类型收录有所不同盐浓度焦化废水处理
中合反应迟钝池:分第一阶段污泥脱水氢阳极氧化反应钠和氢阳极氧化反应钙,把握然后pH至7.5-8.
水解酸化池不良反应池:添加PAC和PAM增进乳浊液郊果
斜管乳浊液池:高效性固液脱离
多有机溶剂过虑器:快速清理的细小小粒
反融入系统的:广度脱盐和除氟
厌氧颗粒活性污泥沉淀过滤器系统软件:离心分离过滤器后厌氧颗粒活性污泥运输正规专业防范
在线播放检测系统软件:实时路况网络监控氟阴阳离子渗透压和pH值
决定性效率
加工处理模式程序运行资料:
水进氟阳离子平均的氧化还原电位:2800mg/L
有水出氟正离子密度:3.2mg/L(平均水平)
氟清理率:99.9%以上的
水中水回用率:提升65%
系统的自功化程度较高,推动废液除理直接费用缩减30%,年出售氟化钙副物料约400吨。