某半导体技术制作的企业因晶圆难以清理步骤生产含氨废污水，容量200吨/天。废污泥里除高锰酸盐指数外还带有氟化物和微量分析巨资属，办理难度很大大。立即排放标标必须高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废气材质及源 晶圆洗涤废水处理方法（通常来源地）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀生产工艺工业废水：含进样器铜、镍等巨资属，pH值变化大 CMP研磨机污水：含硅科粒及氟化物 清理工艺设计生产流程图 按照"生物放置+膜脱离+折点氯化"三人组合技术： 预进行处理 ：加药系统CaCl2除氟，把控pH在7.5-8. 超滤膜整体 ：去掉0.01μm上面的粉末物 反渗入沉淀 ：将氟化物浓缩咖啡至1000mg/L及以上 折点氯化 ：正确调整氯污泥脱水量，将挥发酚变为为N2 铁离子变换 ：质量保障巨资属考核标准 终于使用效果 高锰酸盐指数相对稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属量小于监测限 水循环率达75% 废水导致量缩短40%