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半导体加工废水处理案例|半导体加工废水处理方法

投资项目大环境 该半导体器件芯片商家坐落于长半圆东南部,重点的生产制造8厘米和12厘米晶圆,日进行排放口废需水量约2000吨。仍然半导体器件芯片的生产制造施工工艺冗杂,生产工业污水处理设备组分繁多且包含有很多种难降解塑料材料,商家固有办理安全设施不可无法逐步从紧的节能减排进行排放口细则,故投入资金5000万元重新命名行业生产工业污水处理设备办理站。 污水成份及原因 该行业污废水 主要是可分成八类: 含氟污水:来在于于晶圆蚀刻、清理道工序,氟铝离子溶液浓度超过2000mg/L; 有机肥料物化工废水:来自于光刻、显影液等工艺技术,具有刺激性异丙醇、异丙醇等有机肥料物溶液,COD值在5000mg/L影响; 耐酸碱废渣:引起于的洗涤和接触面操作重要环节,pH值下跌大; 含铜废水处理工艺:来自于主轴电镀和金属质化工机械艺,铜化合物酸度约150mg/L。 解决方法步骤 对於不相同的性质的污水,主要采用"类型自身+分质处里+末梢宽度处里"的組合工艺设备: 含氟焦化废水正确处理线: 有级物理积累:先加药氯化钙缓解pH至6-7,多加入PAC和PAM斜管积淀池积累; 可溶性防氧化铁气体吸附:抓好氟化合物浓硫酸浓度减少为8mg/L下面的。 设计废水处里处里线: 微钛电极不起作用:铁碳塑料填料床预补救挺高焦化废水可血生化性; UASB水解酸化池响应器:HRT=24h,COD清掉率65%; MBR膜微生物影响器:用于PVDF空芯纤维板膜,喷水COD<50mg/L。 碱酸生产废水中合系统化: 一键pH调:能够 优酷云监测数据仪的控制加酸加碱量; 二沉池放置:出掉结合引起的透明桌面物。 含铜电镀废水治疗: 化工积淀:污泥脱水NaOH的调节pH至9-10,成型氢脱色铜积淀; 阳阳离子交流:事关铜阳阳离子浓度值<0.3mg/L。 层次清理单无: 臭氧老化离子液体防氧化:进一部生物降解难分解的卤素元素物; 活性氧炭净化:除去颜色和少量弄脏物; 红外光谱线灭菌:为了确保溢水微生物当中体指数公式符合标准。 之后郊果 顶目行驶后,满水后水的硬度稳定可靠满足《電子重工业水影响物减排细则》(GB 39731-2020)特点减排卫生防护距离的标准,表中氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜<0.3mg/L。次年可下降氟化物减排约120吨,COD减排约400吨,回收分类处理水成本预算约10万吨。模式一键化因素高,行驶成本预算调节在8.5元/吨水左右两。

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